等离子体是一种在高能量下形成的气态物质，它的应用范围非常广泛，其中在半导体工业中的应用更为重要。等离子体技术在微电子制造领域有着广泛应用，如光刻、离子注入、蚀刻、清洗等方面。其中光刻作为芯片工艺中不可或缺的一步，其核心部分就是利用等离子体对光刻胶进行曝光图案的转移。
光刻机是一种普遍应用于集成电路制造工艺中的高精度制造设备，其核心在于用光刻胶涂覆在硅片上，通过等离子体的辐射实现曝光处理，之后就能够清晰地看到芯片上的线路图案。由于等离子体可控性好，强度可调节，所以在光刻机中得以广泛应用，相较于传统方法可以更好地控制线宽和图案间距。